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西门子线上研讨会|MEMS器件开发:高效率L-Edit版图及定制工艺设计平台

七月 28, 2022 | Sky News
西门子线上研讨会|MEMS器件开发:高效率L-Edit版图及定制工艺设计平台

Tanner L-Edit MEMS 是一种高级版图编辑器,具有曲面多边形和任意角度布尔运算等能够支持 MEMS 版图设计的功能。与其他专为机械工程而设计的 CAD 工具不同,L-Edit MEMS 以半导体产线的精度进行版图开发,针对 MEMS 器件特有的曲线结构可以实现直接绘制、图形逻辑运算及图层派生。同时可以无缝衔接 CAD 工具输出的数据格式,方便不同的设计团队在不同的设计阶段进行数据转换。利用众多强大的功能,例如出色的曲线支持、交互式 DRC、布尔运算、对象捕捉和对齐,可以更高效地开展工作, 以节省时间和成本。

 

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内容亮点

  • 概述 Tanner/L-Edit 与 MEMS
  • L-Edit 用于 MEMS 版图设计的优势
  • 基于 L-Edit 的 MEMS 3D 建模

 

1 (5) 讲师介绍

宋琛

从事模拟数字混合芯片开发十余年,涉及电源管理芯片、显示驱动芯片等,熟悉芯片开发流程及EDA工具的匹配。2018年加入西门子EDA,负责AMS/ MEMS/ Photonics设计平台-Tanner EDA在中国大陆地区的推广和技术支持。

 

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来源:西门子

标签:
#Design  #展览与会议  #西门子  #线上  #研讨会  #MEMS  #器件  #开发  #高效率  #L-Edit  #版图  #定制  #工艺  #设计  #平台 

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